项目类型：新项目

合作模式：合资,独资

项目所属行业：石油化工

项目主要内容：

项目建设理由和条件

三氟化氮(niTrogenTrifluoride)是一种有毒、无色、无嗅、不可燃的氧化性压缩气体。1960年，三氟化氮作为一种实验火箭燃料首次被应用。随后它被用于美国导弹防御系统的化学激光。20世纪中期，科学家通过研制和开发，利用化学气相沉积法，将三氟化氮替代了过去对大气层有破坏作用的清洗材料。如今，电子信息产业的快速发展，为电子气体等材料带来了广阔的市场空间，台式电脑、随身笔记本、手机、MP-3体积正变得越来越小，液晶显示屏(TFT-LCD)、液晶电视厚度正在变得越来越薄，在此过程中，被誉为气体“刻刀”的特种气体高纯度三氟化氮崭露头角立下了汗马功劳。展望全球通讯、计算机、电子消费品、智能电器及汽车的发展前景，三氟化氮作为一种半导体芯片和平板显示器的清洗剂和蚀刻剂，在平板电视机和笔记本电脑的液晶显示器、半导体和人造钻石的生产过程中被大量使用，它的投产不仅能增加电子气体品种和出口创汇能力，提高产品生产的技术水平及行业竞争力，而且对于经济效益的提高作用巨大。

据初步统计，2006年世界三氟化氮总用量为5000吨，预计到2008年将达到8000吨；2007年国内三氟化氮用量约为550多吨，2009年达到950吨的需求量，以后国内每年将以60～100吨用量增长。由于受生产及工艺技术水平的限制，我国三氟化氮生产能力不足200吨/年。为此可以看出，我国在半导体和TFT液晶方面，用三氟化氮气体的市场缺口甚大。随着纳米技术和电子工业的复苏，世界各国对三氟化氮需求量将越来越大，据专家市场预测，未来10年，半导体、芯片行业对三氟化氮的需求量将以每年25%的速度递增，同时对三氟化氮纯度的要求也越来越高，这意味着该产品未来将有更广阔的发展空间。

建设规模及主要内容

建设年产100吨三氟化氮生产线；总投资6000万元，预期可实现销售收入1亿元。

前期工作进展情况

已进行初步论证。